P2事業推進部

事業概要

　Ｐ２事業推進部では独自の常圧プラズマ技術を利用し、半導体・LCD向け各種製造装置の開発・販売を行っています。

常圧プラズマの特徴

独自のプラズマ発生技術と反応ガス流制御技術による大面積の常圧プラズマ
1．真空を必要としない常圧プロセスであり、連続処理が可能
2．リモート型ソースにより、基材へダメージを与えずに処理ができ、様々な基材に対応可能